Centre de ressources Dafpic Orléans

WIKINDX

Accès aux références WIKINDX

Ouvrage: ID no. (ISBN etc.):  978-2-7440-9500-9 Clé de citation BibTeX:  EISAMANN2013
EISAMANN, K., DUGGAN, S., & PORTO, J. (2013). Photoshop masques et compositions: 2ème édition. Paris: PEARSON.
Ajoutée par: Esther FAUCHEUR 2014-09-19 14:39:06
 B  
Catégories: Greta Indre et Loire
Creators: DUGGAN, EISAMANN, PORTO
Editeur: PEARSON (Paris)

Number of views:  310
Popularity index:  3.94%

 
Résumé
Grâce à Photoshop, les artistes, les photographes, les illustrateurs et les designers créent des images fantastiques ou réalistes à des fins commerciales ou artistiques. Le masquage et le montage leur permettent d'améliorer leurs photos, de substituer à des arrière-plans monochromes un contenu beaucoup plus dynamique ou encore de raconter, en une seule image, des histoires qui nécessiteraient plusieurs prises de vue. Mais encore faut-il maîtriser ces techniques souvent complexes.

Cette nouvelle édition du livre de référence sur le masquage et le montage photo vous guide à travers des procédures qui exploitent tout le potentiel de Photoshop CS6 pour vous montrer comment isoler des éléments dans plusieurs photographies et les combiner ensuite en une seule image composite. Vous découvrirez les techniques de prises de vue et d'éclairage en studio afin d'obtenir des éléments plus faciles à détourer. Vous apprendrez ensuite à réaliser des sélections précises, à harmoniser la lumière, la couleur, et les textures dans le but de produire des univers extrêmement riches. Enfin, les nombreux entretiens avec des artistes vous permettront de mieux comprendre l'approche créative que vous devez développer pour exploiter totalement les ressources de Photoshop en matière de montage photo.

Dans cet ouvrage incontournable, vous apprendrez à :
• définir un flux de production, du croquis à la création d'une image composite complexe ;
• préparer l'éclairage, analyser la perspective, choisir un point de vue et respecter l'échelle pour intégrer les différents éléments dans un montage cohérent sans aucun raccord visible ;
• travailler de manière non destructive avec des groupes de calques, des masques d’écrêtage, des objets dynamiques et des masques de fusion ;
• optimiser le réalisme et la profondeur de vos montages.
Ajoutée par: Esther FAUCHEUR

 
cote
53.5 ti EIS, Bayet industries graphiques
Ajoutée par: Esther FAUCHEUR

 
inventaire
7890, 7891, 7892
Ajoutée par: Esther FAUCHEUR

 
wikindx  v3.8.2 ©2007     |     Total Resources:  4327     |     Database queries:  27     |     Script execution:  0.22769 secs